应用：
磨抛光机为双台式，适用于粗磨、精磨
以及金相试样的抛光。
该机采用微处理器控制系统，无级转速50-600rpm，从而拓宽
它的应用。本机具有两个控制系统，可由两人同时操作，本机具有冷却装置，可在研磨抛光时对试样进行冷却，防止
试样过热对金相组织的破坏。
该机使用方便、安全可靠，是工厂实验室理想的制剂设备，
研究所和大专院校等。
主要规格：
模型 | KSMopao 2DE |
结构 | 双盘双控 |
研磨抛光盘直径 | φ 203mm |
φ 230或φ 250mm（可选） | |
磁盘速度 | 50~600rpm（无级） |
150r/mi、300r/min（定速） | |
砂纸直径 | φ 200mm |
电机功率 | 550 W × 2 |
电源 | 220伏50赫兹 |
尺寸 | 710 × 680 × 330毫米 |
重量 | 50公斤 |
